Швидкість вакуумного осадження та оптична якість плівок As2S3

Abstract

Методом еліпсометрії проведено дослідження якості та комплексного показника заломлення плівок As2S3, одержаних вакуумним випаровуванням при різних швидкостях їх осадження на підкладку. Ключові слова: вакуумне випаровування, плівка As2S3, показник заломлення, еліпсометрія

Using the ellipsometry method, the comlex refractory index (N=n-ik) and the As2S3 film thickness have been measured. The above films were produced by the vacuum evaporation deposition at different rates onto the substrate. It has been found that the most thin films produced at the less deposition rate agree better in n with the initial values for the As2S3 glass, and, thus, the better optical quality. This is explained by the presence of the inhomogeneity at the level of dimensions less than the wavelength, or even by the nanodimensional inhomogeneity that in these measurements reveal the anisotropic medium property, as well as by the formation of the structurally non-uniform transient contact layers with less refractive index value. Keywords: vacuum evaporation, As2S3 film, refractory index, ellipsometry method.