Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
https://dspace.uzhnu.edu.ua/jspui/handle/lib/19643
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Shuaibov, Alexandr | - |
dc.contributor.author | Minya, Alexandr | - |
dc.contributor.author | Gomoki, Zoltan | - |
dc.contributor.author | Gritzak, Roksolana | - |
dc.contributor.author | Laslov, Geza | - |
dc.contributor.author | Shevera, Igor | - |
dc.date.accessioned | 2018-06-06T10:44:09Z | - |
dc.date.available | 2018-06-06T10:44:09Z | - |
dc.date.issued | 2014 | - |
dc.identifier.citation | 2, 105-109 | uk |
dc.identifier.uri | https://dspace.uzhnu.edu.ua/jspui/handle/lib/19643 | - |
dc.description.abstract | The results of an experimental study of radiation characteristics of a barrier discharge in a mixture ArCCl4 were presented in this paper. Formation of molecules ArCl(B) and Cl2(D’) in the barrier discharge plasma depends strongly on the partial pressure of freon vapor is shown. The intensity of the radiation band Cl2(D’-A’) on the value of the pulse repetition rate current at a charging voltage Ud = 13 kV were close to the line that indicates the possibility of increasing the average power of the VUV-UV discharge at frequencies f > 1 kHz. | uk |
dc.language.iso | en | uk |
dc.publisher | DAVID PUBLISHING, Journal of Electrical Engineering | uk |
dc.subject | barrier discharge | uk |
dc.subject | plasma | uk |
dc.subject | intensity of the radiation | uk |
dc.subject | ArCCl4 | uk |
dc.title | The Formation of Excited Molecules Chloride Argon, Chlorine and Hydroxyl Radicals in the Nanosecond Barrier Discharge | uk |
dc.type | Text | uk |
dc.type | Image | uk |
dc.pubType | Стаття | uk |
Располагается в коллекциях: | Наукові публікації кафедри прикладної фізики і квантової електроніки |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
JEE-E20140207-1.pdf | 264.97 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.