Optical properties of X-ray irradiated Cu6PS5I-based thin films deposited by magnetron sputtering

Abstract

Тонкі плівки на основі Cu6PS5I, нанесені методом магнетронного розпилення, опромінювалися при різних часах експозиції з використанням широкосмугово-го випромінювання мідного аноду рентгенівської трубки. Вивчено спектри оп-тичного пропускання, урбахівський край оптичного поглинання та дисперсію показників заломлення опромінених рентгенівським випромінюванням тонких плівок Cu5.6P1.7S4.9I0.8, Cu6.4P1.1S4.6I0.9 та Cu8.0P0.7S3.6I0.7. Виявлено зменшення енергії псевдозабороненої зони та збільшення показника заломлення при збі-льшенні часу рентгенівського опромінювання.

Тонкие пленки на основе Cu6PS5I, нанесенные методом магнетронного распы-ления, облучались при различных временах экспозиции с использованием ши-рокополосного излучения медного анода рентгеновской трубки. Изучены спе-ктры оптического пропускання, урбаховский край оптического поглощения и дисперсия показателей преломления облученных рентгеновским излучением тонких пленок Cu5.6P1.7S4.9I0.8, Cu6.4P1.1S4.6I0.9 и Cu8.0P0.7S3.6I0.7. Обнаружено уме-ньшение енергии псевдозапрещенной зоны и увеличение показателя прелом-ления при увеличении времени рентгеновского облучения.

Cu6PS5I-based thin films deposited by magnetron sputtering were irradiated using wideband radiation of Cu-anode X-ray tube at different exposition times. Optical transmission spectra, Urbach absorption edge, and dispersion of refractive index for X-ray irradiated Cu5.6P1.7S4.9I0.8, Cu6.4P1.1S4.6I0.9 and Cu8.0P0.7S3.6I0.7 thin films were studied. The decrease of energy pseudogap and increase of refractive index with in-crease of X-ray irradiation time is observed.