Optikal parameters of X-ray irradiated Cu7GeS5I thin films

Abstract

Cu7GeS5I thin films were deposited by non-reactive radio frequency magnetron sputtering onto silicate glass substrates. Optical transmission spectra of X-ray irradiated Cu7GeS5I thin films were measured depending on irradiation time. With irradiation time increase the red shift of the short-wavelengt part of transmission spectra and interference maxima were observed. Urbach absorption edge and dispersion of refractive index for X-ray irradiated Cu7GeS5I thin films were studied. Under the influence of the X-ray irradiation the decrease of the energy position of absorption edge as well as the increase of the Urbach energy and refractive index were revealed. Influence of X-ray irradiation on the optical parameters and disordering processes in Cu7GeS5I thin films was analysed.

Тонкі плівки на основі Cu6PS5I були нанесені на підкладинки з силікатного скла методом нереактивного радіочастотного магнетронного розпилення. Спектри оптичного пропускання опромінених рентгенівським випромінюванням тонких плівок Cu7GeS5I вивчалися в залежності від часу опромінювання. Зі збільшенням часу опромінювання спостерігається червоне зміщення короткохвильової частини спектру пропускання та максимумів інтерференції. Досліджено урбахівський край оптичного поглинання та дисперсію показника заломлення опромінених рентгенівським випромінюванням тонких плівок Cu7GeS5I. Показано, що під впливом рентгенівського випромінювання енергетичне положення краю поглинання зменшується, тоді як енергія Урбаха та показник заломлення збільшуються. Проаналізовано вплив рентгенівського випромінювання на оптичні параметри та процеси розупорядкування в тонких плівках Cu7GeS5I.