Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
https://dspace.uzhnu.edu.ua/jspui/handle/lib/14816
Назва: | Фоторезистивні шари на основі стекол системи As-S |
Інші назви: | Photoresist layers based on As-s glasses |
Автори: | Туряниця, Іван Іванович Цигика, Володимир Васильович |
Ключові слова: | поверхнево-активні речовини (ПАР), шари системи As-S |
Дата публікації: | 2009 |
Видавництво: | Видавництво УжНУ "Говерла" |
Бібліографічний опис: | Фоторезистивні шари на основі стекол системи As–S [Текст] / І. І. Туряниця, В. В. Цигика // Науковий вісник Ужгородського університету : Серія: Фізика / відп. за вип. В. Біланич. – Ужгород: Видавництво УжНУ «Говерла», 2009. – Вип. 25. – С. 61–64. – Бібліогр.: с. 63–64 (8 назв). – Рез.– англ., рос. |
Короткий огляд (реферат): | Приведено результати досліджень можливості застосування аморфних плівок
системи AsxS1-x, де 30≤х≤43As-S в якості фоторезистивних шарів. На основі вивчення
залежностей швидкості розчинення, селективності, якості поверхні від складу,
експозиції, рецептури і температури розчинника показано перспективність
використання в якості ефективного травника морфоліну з активуючими добавками.
Даний фоторезист характеризується високою селективністю, чіткими границями
травлення та хорошою якістю поверхні. The selective etching procedure was studied for evaluation of the possibility of the application AsxS1-x, (30≤х≤43) films as a photoresist. Dependences of the dissolution rates, the selectivity and quality of the film surface both during and after etching procedure on the film compound and composition of solution, and its temperature were investigated. It is found that morpholine with activated admixture is the perspective and effective etching solution. Investigated layers of the photoresist have high selectivity, precise boundary, and good quality of the surface. It is concluded, that these layers are suitable for the fabrication of different diffractive optical elements (gratings, lenses, etc.). |
Тип: | Text |
Тип публікації: | Стаття |
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): | https://dspace.uzhnu.edu.ua/jspui/handle/lib/14816 |
Розташовується у зібраннях: | Науковий вісник УжНУ Серія: Фізика. Випуск 25 - 2009 |
Файли цього матеріалу:
Файл | Опис | Розмір | Формат | |
---|---|---|---|---|
7.Фоторезистивні шари на основі стекол системи As-S.pdf | 107.86 kB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.