Дослідження поверхні аморфного сплаву Fe75Ni4Si2Mo3B16 методами ЕОС та РФЕС

Abstract

Методом електронної оже-спектроскопії (ЕОС) та рентгенівської фотоелектронної спектроскопії (РФЕС) для аморфної стрічки складу Fe75Ni4Si2Mo3B16 встановлено суттєве відхилення концентрації хімічних елементів у приповерхневій області від стехіометричного складу, характерного для об'єму аморфної стрічки. Пошаровий аналіз за допомогою іонного травлення показав також значну неоднорідність розподілу аналізованих елементів по товщині аморфної стрічки до глибини 100 ÷ 200 нм. Якісний характер цього розподілу не змінюється при переході від вільної до контактної сторони стрічки, проте спостерігаються помітні кількісні відмінності.

Using Auger electron spectroscopy (AES) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) an essential deviation of the concentration of the chemical elements in the near-surface layer from the bulk stoichiometric composition of amorphous Fe75Ni4Si1,Mo3By6 alloy ribbon. A strong non-uniformity of the distribution of the elements over the depth of the amorphous ribbon up to 100 ÷ 200 nm is shown by layer-by-layer analysis by ion etching. The qualitative character of this distribution is the same for the free and the contact side of the ribbons, however noticeable quantitative differences are observed.