Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: https://dspace.uzhnu.edu.ua/jspui/handle/lib/74476
Название: CHARACTERISTICS AND CONDITIONS OF PULSE GAS-DISCHARGE SYNTHESIS OF THIN FILMS OF NICKEL OXIDE (NiO)
Авторы: Feldii, M.M.
Mynia, O.Y.
Shuaibov, O.K.
Hrytsak, R.V.
Pop, M.M.
Danylo, V.V.
Zubaka, O.V.
Ключевые слова: overvoltage nanosecond discharge, runaway electrons, ultraviolet region, Nickel atom
Дата публикации: мая-2025
Издательство: ІЕФ HAH України, 2025
Библиографическое описание: «Міжнародна конференція молодих учених та аспірантів ІЕФ-2025» - Ужгород, Інститут електронної фізики НАН України, 2025. – 172 с. ISBN 978-617-8127-59-6
Краткий осмотр (реферат): The report presents the results of a study of the conditions and characteristics of the synthesis of thin films of Nickel oxide by their deposition from an overvoltage nanosecond discharge (OND) plasma between Nickel electrodes in atmospheric pressure oxygen.
Тип: Text
Тип публикации: Тези до статті
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): https://dspace.uzhnu.edu.ua/jspui/handle/lib/74476
ISBN: 978-617-8127-59-6
Располагается в коллекциях:Навчально-методичні видання кафедри прикладної фізики і квантової електроніки

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
конф ІЕФ 2025.pdf570.42 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.