Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
https://dspace.uzhnu.edu.ua/jspui/handle/lib/74476| Назва: | CHARACTERISTICS AND CONDITIONS OF PULSE GAS-DISCHARGE SYNTHESIS OF THIN FILMS OF NICKEL OXIDE (NiO) |
| Автори: | Feldii, M.M. Mynia, O.Y. Shuaibov, O.K. Hrytsak, R.V. Pop, M.M. Danylo, V.V. Zubaka, O.V. |
| Ключові слова: | overvoltage nanosecond discharge, runaway electrons, ultraviolet region, Nickel atom |
| Дата публікації: | тра-2025 |
| Видавництво: | ІЕФ HAH України, 2025 |
| Бібліографічний опис: | «Міжнародна конференція молодих учених та аспірантів ІЕФ-2025» - Ужгород, Інститут електронної фізики НАН України, 2025. – 172 с. ISBN 978-617-8127-59-6 |
| Короткий огляд (реферат): | The report presents the results of a study of the conditions and characteristics of the synthesis of thin films of Nickel oxide by their deposition from an overvoltage nanosecond discharge (OND) plasma between Nickel electrodes in atmospheric pressure oxygen. |
| Тип: | Text |
| Тип публікації: | Тези до статті |
| URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): | https://dspace.uzhnu.edu.ua/jspui/handle/lib/74476 |
| ISBN: | 978-617-8127-59-6 |
| Розташовується у зібраннях: | Навчально-методичні видання кафедри прикладної фізики і квантової електроніки |
Файли цього матеріалу:
| Файл | Опис | Розмір | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| конф ІЕФ 2025.pdf | 570.42 kB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.